|
|
|
| |
| 化學(xué)氣相沉積制備高純高性能碳化硅涂層技術(shù) | | 發(fā)布時(shí)間：2022-4-26 15:05:24 | | | | | 高純高性能碳化硅涂層部件是急需實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)口的關(guān)鍵半導(dǎo)體設(shè)備零部件。圍繞碳化硅涂層部件國(guó)產(chǎn)化問(wèn)題，研究化學(xué)氣相沉積制備高純高性能碳化硅涂層的技術(shù)，研究碳化硅晶體化學(xué)氣相沉積的形核與生長(zhǎng)機(jī)制，研究沉積工藝與痕量金屬元素、晶粒組織形貌及碳化硅晶體結(jié)構(gòu)調(diào)控的關(guān)系、研究沉積工藝對(duì)涂層耐熱性能、抗腐蝕性能的影響，研究基體與涂層界面結(jié)合強(qiáng)度的調(diào)控機(jī)制。實(shí)現(xiàn)可應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備的碳化硅涂層部件的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化。 | | | 【刷新頁(yè)面】【加入收藏】【打印此文】 【關(guān)閉窗口】 | |
|
|
|
|
